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全自动槽式刻蚀机装备

全自动槽式刻蚀机装备

适用于:8~12英寸晶圆刻蚀装备特点:1. 刻蚀性能优异,与Single Wafer机台完全持平,而能耗更低2. 节能,药水单耗低于Single Wafer3. 结构简朴,使用利便,操作难度低于Single Wafer4. 本钱低廉,相同产能其价钱约为...

适用于:8~12英寸晶圆刻蚀 

装备特点

1. 刻蚀性能优异,与Single Wafer机台完全持平,而能耗更低

2. 节能,药水单耗低于Single Wafer

3. 结构简朴,使用利便,操作难度低于Single Wafer

4. 本钱低廉,相同产能其价钱约为Single Wafer机台的1/5

5. 装备升级空间重大,容易搭载更多的功效


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